文 | 半导体产业纵横
2025年，众人晶圆厂的扩产节拍光显加速，但一个反常表象出现了：光刻机的出货总量却不才降。
从现时众人光刻机的商场供应形态来看，具备商用光刻机批量坐蓐才能的厂商仍高度结合，中枢玩家仅有荷兰 ASML、日本佳能、日本尼康三家；国内虽有部分企业终局了光刻机的小批量出货，但因尚未造陋习模化量产规模，暂未纳入本次主流商场的统计范围。
光刻机三巨头，出货几何？
ASML，出货约327台
归来过往，2016年及往时，ASML的EUV光刻机年出货量仅1-5台，DUV光刻机年出货量约150台；2017年后，EUV出货量逐年攀升，2023年达到峰值53台，同期DUV出货341台；2024年，ASML光刻机总出货量创下历史最高，为418台。
但2025年这一趋势出现滚动。凭据ASML发布的2025财年功绩施展，第四季度新售出光刻系统94台、二手系统8台；全年新光刻系统300台、二手系统27台，比拟2024年的380台新系统、38台二手系统，出货总量光显下滑。
分机型来看，EUV光刻系统弘扬亮眼，销售额同比增长39%至116亿欧元，对应证据48台收入，首台EXE:5200B系统完成现场验收并入账；DUV光刻系统则有所承压，销售额同比下落6%至120亿欧元，证据279台收入，首款面向3D集成商场的XT:260系统已请托并证据收入。两者意料，2025年ASML已证据收入的光刻机约327台，较2023年、2024年权贵回落。
中国商场依然ASML的紧要复古，2025年占其净系统销售额的33%，位居众人首位，但这一比例较2024年的41%有所下落。为餍足中国内存厂商的需求，ASML狡计2026年第四季度推出新款浸润式DUV NXT：1965i。该机型由1980i系列降规而来，既安妥好意思国出口表率，又能适配中国内存企业的需求，有望为2026年四季度及2027年功绩提供助力。
预测改日，依据蔡司半导体的扩产霸术，ASML筹谋2027年EUV出货量将达80-85台，DUV出货量将达380-400台，重回增长轨谈。
尼康+佳能：意料出货约318台
尼康与佳能暂未公布2025年光刻机准确出货数据，但从两家财报预测中可节略推算。其中，尼康2025年4-9月半导体光刻机销量为9台，低于旧年同期的10台；同期，尼康将今年度销量场地从上调前的34台下修至29台，略高于2024年的28台。
佳能的弘扬相对稳健，2025年一季度半导体光刻设备销量56台，同比加多7台；尽管将今年度销量场地从308台下调至289台，但相较于2024年的233台，仍能终局24%的同比增长。
空洞两家场地推算，2025年尼康与佳能意料出货量约为318台。
据此狡计，2025年众人三大光刻龙头的光刻机总出货量约为645台。
中国光刻机入口数，下滑！
伯恩斯坦凭据中国海关公开数据，对2025年中国半导体晶圆制造设备（WFE）入口情况进行了回溯分析。遣散贯通，2025年中国晶圆制造设备入口总和达391.66亿好意思元，一分彩同比增长3%，创下历史新高；其中12月单月入口额45.08亿好意思元，环比增长84%，成为全年入口峰值。
{jz:field.toptypename/}光刻机入口方面，2025年全年入口额与2024年基本抓平，仅同比下滑1%，但12蟾光刻机入口额达23亿好意思元，创下月度历史记载。（关系入口办法包括：千里积、干法刻蚀、光刻机、过程适度系统、材料去除与清洁、其他，以及对应总和和不含光刻的总和）
受好意思国出口终局影响，ASML筹谋，2026年中国占销售额的比例将降至20%。
DUV 是国内光刻机的主要入口品类。一方面，国内半导体产业正处于熟谙制程扩产、性情工艺零乱的重要阶段，DUV 的工夫性情可粉饰 7nm 及以上绝大巨额制程需求，与产业现阶段发展节拍高度匹配；另一方面，EUV 受好意思国工夫管控无法闲居入口，国内企业只可通过加大 DUV 入口，弥补先进制程发展受限的缺口，同期保险熟谙制程的产能开释。
比年来国内抓续加多光刻机入口，中枢原因有三：
其一，内存芯片制造是入口DUV的第一大行使场景。国内主流内存企业2025年抓续鼓舞3D NAND与DDR4/DDR5内存的扩产，而3D NAND的堆叠层数普及、DDR内存的制程优化，均高度依赖DUV光刻机——尤其是ASML的ArF浸没式DUV，可通过多重曝光工夫终局更高的图形精度，复古国内3D NAND堆叠层数向500层以上零乱，同期裁减存储芯片的单元资本。
其二，熟谙制程逻辑芯片坐蓐，亦然DUV入口的中枢刚需。2025年，米兰app官网国内主流晶圆代工企业抓续扩产28nm、40nm等熟谙制程，庸碌行使于耗尽电子、物联网、汽车电子等领域，而DUV恰是这类制程的中枢光刻设备。其中，ArF浸没式DUV主要用于28nm（HKC+工艺）的坐蓐，可终局高精度图形曝光，保险芯片性能；KrF干法DUV则用于40nm及以上制程，兼顾坐蓐成果与资本适度。
其三，性情工艺与功率半导体制造，进一步拓宽了DUV的行使规模。在功率半导体领域（如IGBT、MOSFET），国内关系企业2025年加速扩产，这类芯片对光刻精度的条目相对较低，尼康、佳能的KrF干法DUV基本不错餍足需求，用于功率芯片的基片光刻、栅极图形制作等方法，复古新动力汽车、光伏、储能等领域的功率芯片供应。此外，在射频芯片、传感器等性情工艺领域，DUV可通过无邪的曝光决策，适配不同芯片的结构需求，弥补高端光刻设备缺失的短板。
谁，领有最多的光刻机？
在先进制程芯片的制造邦畿上，EUV（极紫外）光刻机早已不是 “可选项”，而是决定产业说话权的 “入场券”。那么，谁领有最多的光刻机呢？
自 ASML 在 2016 年谨慎量产 EUV 光刻机以来，这十年间众人累计请托的 EUV 设备约为 309 台。其中，台积电独占 157 台，占比高达50.8%—— 众人一半的 EUV 产能都被这家中国台湾代工场收入囊中。紧随后来的是三星，其工场里面署了 76 台 EUV；Intel 则领有 35 台，SK 海力士 29 台，好意思光 5 台，而 2022 年才开拓的日本 Rapidus 公司，也拿到了 1 台 EUV 行动先进制程布局的开首。
台积电 157 台 EUV 的保有量，绝非能够的 “设备采购”，而是其在先进制程代工领域构建霸权的中枢支点。从 2019 年头度在 N7 + 工艺中引入 EUV 初始，台积电就将 EUV 与客户需求深度绑定：苹果 A 系列、高通骁龙、英伟达 GPU 等高端芯片的代工订单，实在一王人依赖台积电的 EUV 产能。
三星 76 台 EUV 的布局，折射出其在半导体领域 “双线作战” 的政策窘境：一方面，在逻辑芯片代工领域追逐台积电；另一方面，在存储芯片领域看护工夫率先。不外，这种双重场地导致其 EUV 资源被严重分流。
Intel 的 35 台 EUV，是其 IDM 转型的“底气”；SK 海力士（29 台）和好意思光（5 台）的 EUV 布局，则聚焦于存储芯片的 “工艺优化”。日本 Rapidus 的 1 台 EUV，更像是日本政府推动原土先进制程恢复的 “破冰之举”。这家开拓于 2022 年的公司，获得了日本政府 5000 亿日元的补贴和 ASML 的工夫支抓，场地是在 2027 年量产 2nm 芯片。
可是，只是是EUV的竞争，还不及够。当现存 EUV的工艺极限迫临 2nm 时，ASML 推出的High-NA EUV成为了先进制程竞争的下一个中枢战场。
ASML 首席奉行官 Christophe Fouquet筹谋High NA EUV光刻机将于2027~2028年谨慎插足先进制程的大规模量产功课中。现在在导入新一代图案化工夫上最积极的是英特尔代工，其支抓 High NA EUV 的 Intel 14A 节点将在 2027 年谨慎推出。Fouquet 暗示，High NA EUV 光刻机现在正由英特尔等客户测试，遣散贯通新设备的成像和分辨率弘扬精良，该企业2026 年的任务之一是与客户勾搭将设备的停机时候最小化。Fouquet还提到，ASML 对改日 10~15 年的节略工夫路子已有一定的宗旨，该企业已启动下一代 Hyper NA EUV 的沟通。
早在2023年末，ASML就向英特尔请托了首台High-NA EUV光刻机，型号为TWINSCAN EXE:5000的系统。英特尔将其行动窥探机，于2024年月在好意思国俄勒冈州希尔斯伯勒的Fab D1X完成装配。英特尔文书，已装配了新的TWINSCAN EXE:5200B系统。这是现在众人起初进的光刻机，属于第二代High-NA EUV，将用于Intel 14A制程节点。在ASML的勾搭下，已完成Intel 14A在英特尔晶圆厂的验收测试，以提高晶圆产量。
行动ASML第二代High-NA EUV系统，EXE:5200B基于2023年请托英特尔的首台研发机型EXE:5000升级而来，中枢零乱在于其0.55数值孔径（NA）的投影光学系统。 相较现时主流的Low-NA EUV设备（分辨率约13nm），EXE:5200B可终局8nm单次曝光分辨率，透彻开脱多重图案化（Multi-Patterning）的复杂经由。
旧年3月，三星在其华城园区引入了首台ASML制造的High-NA EUV光刻机，型号为“TWINSCAN EXE:5000”。据悉，三星正狡计加大对极紫外（EUV）光刻设备的投资，购买新一批EUV光刻设备。同期三星将为晶圆代工部门新增两套最新的High NA EUV设备，三星狡计在2025年底和2026年头远隔请托一套，用于其2nm制程的全面坐蓐，其中一套将部署在华城厂区，另一套则可能部署在泰勒晶圆厂。
旧年9月，SK海力士在韩国利川M16工场得胜引进High-NA EUV光刻机，型号为TWINSCAN EXE:5200B，是众人首款量产型High-NA EUV设备。
好意思国银行预测，ASML 2026年High-NA EUV出货量或仅4台，较此前预期减少50%。
值得庄重的是，晶圆代工龙头台积电对High-NA EUV光刻机作风严慎。台积电业务开发及众人销售高等副总裁张晓强2025年暗示，尽管认同High NA EUV的性能，但该设备价钱非凡3.5亿欧元（约3.78亿好意思元）。现在法度型EUV光刻机仍可复古台积电顶端制程坐蓐至2026年，公司A16（1.6nm级）和A14（1.4nm级）工艺均不会给与High NA EUV光刻机。